即将于9月16-18日开展的CIOE中国光博会信息通信、激光、红外、紫外、精密光学、镜头及模组、传感等版块，一站式看遍光电产业链。光博君整理了即将在CIOE精密光学展&镜头及摄像模组展上集中展示的部分镀膜设备产品，其中（株）韩一真空/上海巴昆商贸、Evatec AG、布勒莱宝、国泰真空、成都南光、成都四盛、天一国泰、兴南科技、丹阳光宝、光驰科技、汇成真空、中兴光电、纳峰真空、法卡机电、哈呐机电、米蜂激光 、新柯隆真空、三束镀膜、金石东方、真空机械、凯旋真空（排名不分先后）都将带来精彩展出。想了解更多相关技术及产品，欢迎点击登记领取观众证件，现场莅临展台面对面沟通交流。
部分企业展品预览
（按公司名称首字母排序）
展位号：3D28
高真空镀膜机
HVC-2700DA是适用于手机窗口,按键或玻璃及胶片(film)的全自动高真空镀膜机.我们采用光学厚度控制方式(HOMS: Hanil Optical monitoring system)所会确保镀膜重复性,均一性和生产合格率。
Evatec AG
展位号：3C42
Solaris
全自动的流水线式溅射平台，用于手机面板、后盖、平板电脑面板等大批量式光学应用，可以应用于颜色膜、金属膜、ITO、光掩膜板等的大批量生产。
CLUSTERLINE 200 BPM
用于近红外窄带滤光片，颜色滤光片，ITO和DBR的全自动基板传送的溅射系统，应用包括面部识别，三维感知，屏下指纹和Micro LED。
BAK
蒸发距离从0.5m到2.0m的蒸发设备系列，用于平面、2.5D和3D基板上的精密光学薄膜。典型的应用包括激光巴条（laser bar）和用于红外夜视的增透膜/滤光片/加硬保护层。
展位号：3B51
离子束溅射系统IBS
LEYBOLD OPTICS IBS 1400和1600是高精度高产量离子束溅射镀膜设备。该技术用于超低光损耗镀膜，特别适用于激光光学镀膜。高端离子束溅射镀膜设备应用领域广泛，如激光，医疗，计量，显微镜和光通信等。
蒸发镀膜设备ARES
ARES蒸发镀膜设备应用于精密光学、光通讯、生物医学、航天航空、激光、消费电子、智慧汽车、红外及科研工艺研发等众多领域。具有优良的重复性和均匀性，适合高精密复杂膜系的大批量高效率生产。主要完成实现窄带滤光片、激光相关薄膜、带通滤光片、截止滤光片、偏光片各种减反膜、高反膜等镀膜工艺。
磁控溅射镀膜设备HELIOS
HELIOS 系列磁控溅射设备拥有高速稳定的沉积速率，极高的工艺稳定性，高精度的超薄膜厚控制。可用于超过200层和20μm厚的滤光片，具有最优膜层氧化率，高密度，低损耗的特点。可加工的薄膜器件包括激光带通滤光片，截止滤光片，单腔/多腔滤光片，啁啾反射镜，偏光膜等，应用于消费电子，半导体，生命科学，医疗，计量，基础科研等领域。
展位号：3B53
光学真空镀膜机
此台GT-1550镀膜设备是由成都国泰真空设备有限公司自主研发的全自动系统，集膜系软件、射频离子源、熔料、镀膜、程序自检为一体，实现了智能一键式全自动操作；真空系统使用爱德华原装进口的直连泵、罗茨泵和扩散泵，真空抽速快，稳定性好；晶控使用美国英褔康晶控仪，膜系软件以excel表格的形式快速录入导出，模块清晰，快捷；真空测量使用全进口仪器，量程宽、精度高；使用RF射频离子源，产品膜层致密度、温漂和外观得到本质上的改善；手机远程客户端可让用户在手机上，电脑上远程监视设备的运行状态，必要时进行控制操作。
展位号：3C70
JC760-1/D型双室磁控溅射镀膜系统
上、下室双室结构，装片室与溅射工艺室分隔，靶材工作期间始终处于高真空状态，不会造成氧化和靶中毒，提高靶材的利用率。设备由计算机控制，自动化程度高，生产效率高，既适应于科研机构，也适应于生产线上使用。
ZZS1100-9/G型箱式真空镀膜机
1、设备采用无油真空系统，抽速快、低污染；采用IPC+PLC的控制方式，实现镀膜工艺操作的自动模式和手动模式的转换，在蒸镀过程中，由石英晶体膜厚控制仪控制电子束蒸发源或电阻蒸发源对蒸镀材料的蒸发速率和厚度，特别适合多层光学薄膜的制备。
2、设备采用离子辅助沉积技术，提高膜层附着力。
3、设备可用于光通信、红外夜视、激光应用等多种领域光学元器件的光学薄膜的制备。
ZZ450-1/D型铟柱蒸发生长设备
本产品主要针对件In柱制备工艺需求进行设计，通过设备蒸发源的调整，工件转动速度的调整、改变部分控制方式、更换部分检测部件及控制部件，还能适应其它半导体电子元器件的生产。主要特点：根据蒸发生长金属In薄膜工艺要求，平面工件盘带恒温控制，确保金属In薄膜蒸镀生长全过程基片温度：≤80℃。
ZZS800-4/D型蒸发镀膜机
本产品主要针对器件薄膜沉积兼顾普通光学和电学薄膜的沉积，可以用于制备光学薄膜和电学薄膜元件。主要特点：平面工件盘带恒温控制功能，能够精确控温-20℃～75℃。
JC300系列CIGS太阳电池卷绕磁控溅射设备
本产品主要用于CIGS柔性薄膜太阳电池薄膜沉积的卷绕磁控溅射镀膜设备，本产品也可用于其它行业的柔性半导体元器件的电学镀膜。主要特点：一室三区多组、微张力超低速磁控溅射磁控卷绕溅射。
展位号：3A54
磁控溅射镀膜机
此磁控镀膜系统为单室双靶磁控溅射镀膜设备，主要用磁控溅射的方法制备金属膜，半导体 膜，陶瓷膜，介质复合膜及多层膜和其它化学反应膜及掺杂膜，铁磁性薄膜等。每个靶位可根据需 要选用直流溅射、射频溅射，能够实现不停机的情况下，在样品上连续独立溅射，轮流溅射。主要 由溅射室、磁控溅射靶、直流电源、射频电源、样品加热转台、泵抽系统、真空测量系统、电控系 统、气路系统等组成。主要部件采用国外一级品牌，次要部件采用国内一级品牌，确保整体性能稳定。
溅射卷绕镀膜机
四盛科技---卷绕式磁控溅射真空镀膜机：柔性带材卷绕镀膜，独特的单室双主辊设计（满足2种材料的同时溅射），独创8辊同步运行薄膜走向平稳无折皱，且全部采用德国西门子伺服电机+伺服控制器+PLC控制处理，整个卷绕系统采用闭环张力自动控制，磁控靶设有磁场屏蔽扳并采用独立的均气环设计，配美国AE电源溅射功率平稳，真空系统全部采用进口泵配置，且溅射区采用独立区域气氛设计抽速可控可调（稳定气流），整机集成优化度高、工控电脑人机界面自动化控制稳定可靠。四盛科技是致力于研发、制造的真空镀膜设备专业制造商；四盛科技是值得信赖的友好型生产商；四盛科技愿与用户共赢共发展。
光学真空镀膜机
“科学设计，精心制造”是成都四盛科技有限公司的经营理念。我们不仅能够按照您的技术要求和真空镀膜工艺需要对系统的结构和控制进行最好的设计，而且能够制造出一流的设备，很好的满足您制备薄膜的需求。性能稳定、质量可靠、精密度高、自动化程度高，是“四盛科技”全自动精密真空镀膜设备有别于其他品牌镀膜设备的最大优势。结构设计上接近德国莱宝镀膜设备，设备性能上领先于国内同行镀膜设备。真空室大小φ400 ~ 2700mm，可以满足不同客户的需求。真诚欢迎各界新老朋友来我厂参观、指导！
展位号：3D57
TI1550光学镀膜机
本设备专门为精密光学薄膜器件镀膜生产而设计，各系统单元和总体结构很好地满足了光学薄 膜生产工艺的要求 ，适用于增透膜 、远红外膜和截止膜等各种膜系的镀膜 。它配置了高精度的膜厚控制系统 、性能优良的电子枪、 自动化程度极高的镀膜控制系统等 ，是高精度光学薄膜的 理想镀制设备。
展位号：3C78
离子束溅射镀膜机
离子束溅射沉积技术可以获得致密、附着力强并且光滑平整的高质量薄膜。本设备主要由电气控制系统、真空系统、离子源、靶台、样品台、水冷系统及膜厚实时测量系统等构成，具有污染小，成膜条件易于精确控制，离子束能量和束流可以精确调节，操作方便、制备薄膜重复性好等特点。
展位号：3D45
光学真空镀膜机
本产品适用于：手机、车载、光学镜头、AR+AF等多种功能性及装饰性膜层。
1：人性化的中英文操作介面，简单、直观、易学易操作。
2：采用全球最先进的光学膜层控制仪加PC自动控制软件，可控制超高精度光学膜厚。
3：PC成膜软件中加了，开门时间、晶振、生产炉数、真空度等诸多引响成膜品质的因应术，进行分析自动控制。
4：PC成膜软件中加如了时实时记录文件，可实现远程与本地查看历史成膜文件以文字或图表型式直观的显视出来，便于产品产品分析和机台故障分析
展位号：3A51
行星旋转型溅射成膜装置 NSC-S
NSC-S是大型立体形状基板光学薄膜用金属模式溅射装置。自动搬送公自转工件（spindles）为其特征。
利用轴公自转机构对应立体形状成膜；
成膜范围：H1100x φ2245mm；
搭载公自转基板托板load-lock搬运机构高量产效率、颗粒少；
AR+AS同一工艺成膜可能（AS源选配项）
展位号：3D81
大型电子束蒸发光学镀膜机
在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光学多层薄膜的精密真空镀膜机。将满足客户需求的多种元件组合在一起，可以形成品质更加优良的薄膜。基片伞架采用中心旋转方式(公转)，减少产生振动和颗粒，使基片能够稳定旋转。采用坩埚上没有极片的电子束加热方式作为蒸发源，可以稳定地形成多层膜。采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成高精度且稳定的光学多层膜。可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。
光学电子束蒸发镀膜机
配备电子枪、穴型、腰型或环形坩埚，阻抗式蒸发源。配置光学膜厚控制仪或石英晶体膜厚控制仪，可实现成膜速度和镀膜过程的自动控制。可选射频RF/考夫曼型/霍尔型离子源。可制备AR、AF/AS、硬质膜、装饰膜、ITO膜 、HR膜等。
磁控溅射光学镀膜机
汇成专利RF-ICP离子源具有工作范围广能量均衡，高离化率，高稳定工作效率，低耗能等特点。可利用时间精准控制薄膜厚度，达到设计工艺要求，节省晶控，光控环节，为客户省去大量耗材。可生产高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能。
展位号：3D43
GFM1916双门磁控光学镀膜设备
产品介绍：
GFM1916双门磁控光学镀膜设备，配备公自转旋转系统，在线监测膜厚。完美解决了膜层附着力、硬度、耐脏污、耐摩擦性、耐溶剂性、耐老化、耐水泡及水煮等性能问题。
该设备可在手机玻璃盖板、手机摄像头镀AR+AF，手机后盖、PET膜片上镀渐变色，化妆品瓶、香水瓶等产品上镀彩膜，装载量大，效率高，操作方便，除了优越的膜层性能外，且具有环保的制程。广泛应用于手机领域，使这些产品的耐脏污性能更优，表面更易清洁，使用寿命更长。
展位号：3A43
精密光学镀膜机
本公司主要产品为大型光学真空镀膜机,主要用于滤光片/LED/投影仪/照相机/触屏手机等领域。
展位号：3A72
FCVA真空镀膜锁系统
系统采用单个或一对FCVA镀膜源配置，包括一个工艺真空室、一个装卸载真空室、一架FCVA碳源、一架FCVA金属源 (可选)或一个磁控溅射源(可选)、一个离子束清洗源，可长时间保证工艺真空室高真空要求，从而提高生产效率及保证膜层质量。样品支架采用特殊设计，立式结构，可倾斜、公转、自旋转、加偏压。该系统还可设计为具有多源同时沉积等特殊工艺要求的机台，可在高真空环境下连续镀膜，从而提供品质优异、均匀性好、重复性高的镀膜产品，是精密模具、精密部件表面镀膜、生产超薄高性能膜层的最佳选择。
展位号：3A72
JASOC1350
可根据您的工艺要求配置：1.低温冷凝泵、分子泵或油扩散泵及全自动排气系统，实现排气高效化；2.霍尔离子源、射频离子源或PDS离子源进行离子辅助镀膜，极大改善薄膜的特性和质量；3.高稳定、高可靠性的进口电子枪用于蒸镀工艺；4.阻蒸（多点可选）；5.全自动光学监控系统，自动判极值。大大提高监控精度和可靠性，减少误判；6.薄膜厚度监控和蒸镀工艺完全由计算机自动控制。
JASOC1500
1.双油扩散泵和低温冷凝器组合及全自动排气系统，实现排气高效化；
2.霍尔离子源或射频离子源进行离子辅助镀膜，极大改善薄膜的特性和质量；
3.高稳定、高可靠性的电子枪用于蒸镀工艺；
4.阻蒸（多点可选）；
5.石英水晶片控制器用于控制蒸镀速率，大大提高监控精度和可靠性，减少误判；
6.可有效放置230片以上眼镜片（Ø75mm）；
7.薄膜厚度监控和蒸镀工艺完全由计算机自动控制
JASOC900
1.系统采用了低温冷凝泵及全自动排气系统，达到了排气高效化和节能环保；
2.高稳定、高可靠性的270度偏转电子枪用于蒸镀工艺；
3.大容量六点式旋转电阻蒸发源；
4.使用可见或红外光学膜厚监控系统对蒸镀工艺进行监控；
5.六点水晶膜厚监控器用于控制蒸镀速率，显著提高监控精度和可靠性，减少误判；
6.薄膜厚度监控和蒸镀工艺完全由计算机自动控制。
展位号：3A53
HN-VSD-2120W
HN-VSD-2120W真空镀膜设备,是一款根据客户需求设计的立式单体磁控溅射镀膜设备。主要适应 PET、PC、玻璃等 基材制备 SiO2、NbOx、Si3N4、 Cr 、In、AL等膜层的镀膜设备。该设备结合机械、电气、控制、真空、加热、传动、离子清洗、蒸发、磁控溅射、材料、化工等技术发展出来的高科技设备，适应于现代工业镀膜产业的要求，设备制备的膜层附着力强，膜层致密、均匀性好、成膜稳定、效率高、智能化、故障率低、易维护等特点。设备主要由真空腔体、工件传动机构、低真空泵组、高真空泵组、离子源、磁控溅射系统、仪器仪表及控制系统组成。
展位号：3D51
高精度光学镀膜
米蜂激光依托在研发设计和先进制造方面的良好基础，以非标定制元件为核 心竞争力，给客户提供全光谱光学元件的解决方案。
公司提供三大核心产品：1,耐强激光损伤薄膜，主要应用于高功率工业激光器、激光武器等方面；2,红外元器件（红外分色片、红外窗口镜等），主要应用于红外制导、红外 夜视仪、车载夜视仪等方面；3,滤光片（负滤光片、多通道滤光片等），主要应用于人脸识别、AR/VR、通信系统等。
展位号：3C52
真空蒸发镀膜设备及磁控溅射镀膜设备
本公司专业从事镀膜机研发、制造专用设备ARC系列、高精度高量产性磁控溅射设备RAS系列以及专业、销售70余年，拥有高通用性光学蒸镀设备MIC系列（900mm~1900mm）、塑胶镜头AFS制备用ACE系列。
展位号：3C55
SPC系列制备parylene纳米涂层镀膜机
自主研发派瑞林镀膜设备具有以下特点：1.大产能、高均匀性膜厚控制在+/-20% 2.多工艺配方同时存储、镀膜工艺自动执行 3.工艺参数实时监控、.历史数据可追溯。
SMS系列增强离化磁控溅射硬质装饰镀膜机
设备使用分子泵机组。配备高效能高灭弧能力偏压系统、镀前低电压大电流离子清洗、双极脉冲偏压技术、可变磁场过滤电弧源等技术。一键式操作全程智慧控制。
手机行业的SWOS 系列 磁控溅射光学镀膜机
可在玻璃（平板/2D/3D),PET,PC,复合板，陶瓷，蓝宝石等基材上，镀AR,AR/AF,颜色膜，渐变色膜，反射增亮膜，IR-CUT，金属铟、铝、银膜等。设备使用前级机组+分子泵+深冷的结构。一键式启动，全自动操作。
电子束蒸发精密光学镀膜机
2003年率先在国内制备出IR-CUT滤光片，领先其它厂家两年。SDEI-1500镀膜机是国内真空室最大的制备IR-CUT滤光片的光学镀膜机。坩埚盘尺寸和装药量国内最大。装备在中科院上* 光机所国家神光工程项目装备上。
展位号：3C63
定制单体镀膜设备
据客户需求，可在不同材质、形状的基材，完成单层或多层功能性薄膜的镀制(金属膜、反射膜、导电膜、非导膜及半透膜等)。该设备可同时完成离子轰击清洗、功能膜及保护膜(CVD)的镀制，该设备可实现自动化控制，操作简便，生产效率高，结构紧凑，设备稳定，绿色环保，且具有膜层附着力、膜层品质、均一性良好等优点。该设备工件采用公转的传动方式，配合定制夹具，能最大限度完成异形基材的镀膜需求，且可同时装配多种靶材，以应对复合膜层镀膜需求。可为客户提供镀膜设备及镀膜工艺的全套技术解决方案。
小型磁控溅射镀膜生产线
该生产线利用磁控溅射镀膜原理，实现在基材表面镀制金属膜、反射膜、导电膜、非导膜及半透膜等功能薄膜。镀制的薄膜具有附着力强，膜层致密，表面光洁度高，均一性良好等优点。可用于汽车配饰件镀膜、五金模具装饰镀膜、通信模组镀膜等方面。该生产线采用水平传输工件，多段式布局，包括进片段、离子清洗段、底涂段、镀膜段、保护层镀膜段、出片段。可一次性完成PVD镀功能膜，CVD镀保护膜(AK0.65)的工艺，具有装载量大，操作简便，生产效率高，绿色环保，可实现全自动化控制等特点。
热反射玻璃镀膜生产线
热反射镀膜玻璃又称镜面玻璃或阳光控制镀膜玻璃，是在优质浮法玻璃表面利用真空磁控溅射镀膜的方式镀一至多层金属或化合物薄膜而成的对阳光具有反射作用的镀膜玻璃。对来自太阳的红外线，其反射率可高达60%，常用作中空玻璃或夹层玻璃，有金色、茶色、灰色、紫色、褐色、青铜色和浅蓝色等各色，具有良好的节能和装饰作用。
Low-E玻璃镀膜生产线
Low-E玻璃（又称低辐射镀膜玻璃）是Low Emissivity Glass的简称，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。该产品对可见光有较高的透射率，同时对红外线（尤其是中远红外）有很高的反射率。与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，Low-E玻璃既具有优异的阻隔热辐射透过的作用又保持了良好的采光性，可以起到控制阳光、节约能源、及改善环境的作用，是一种优良的节能建筑材料。
展位号：3C81
镀膜设备
宏大真空镀膜设备。
展位号：3D71
Sapio-S1700i
超高性能光学薄膜用镀膜机Sapio1300 / 1550 / 1700 其特点在于高效的排气系统和高精度的膜厚控制系统,能够提高从防反射膜到多层滤光片的广泛领域的产品质量,是重现性高,间隔时间短的最高性能型号。
展位号：3B71
电子枪蒸发光学镀膜机
应用范围：精密光学薄膜、电学薄膜。如滤光片、增透膜、反射膜、滤光膜、分光膜、带通膜、介质膜、高反膜等各种膜系，能够实现0-200层膜的膜系镀膜。产品特点：配置高精密的电子枪和离子源。集成电阻蒸发，镀膜工艺和膜厚自动控制，薄膜质量稳定。成膜室抽速：3.0×10-3Pa≤30min 极限真空度：8.0×10-5Pa 镀膜系统：电子枪蒸发 、电阻蒸发 溅射靶材：C、Si 、Nb、Cr、Al、Ti 和各种化合物等 膜厚控制：晶控或光控 控制系统：工控电脑+触摸屏
AMOLED中试蒸镀机
介绍 高真空全自动蒸镀机，包含自动UV封装系统。可应用于RGB全彩AMOLED屏幕的研发及小批量生产，也可用于8inch Micro-OLED 微显屏幕的生产、OLED材料验证以及WOLED（白光照明）、QLED（量子点）、薄膜太阳能器件等方面的薄膜沉积。特点：高真空、全自动、高对位精度、高膜厚均匀性、高膜厚重复性、超洁净工艺环境、低制程温升
连续型镀膜生产线
应用范围：LOW-E、电致变色等建筑玻璃行业。CIGS、碲化镉、晶体硅等新能源行业。平板显示、触控面板、手机前后盖等消费电子行业。产品特点：•大面积镀膜，多室多靶位，灵活性大; •磁导向传输系统，平稳可靠; •镀膜前有离子源对基片进行表面清洗和活化，提高附着力，改善膜层质量; •真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽气能力; •便于维修的侧装分子泵和全开式真空室门; •自行开发的方便的用户易操作控制软件; •工件架识别系统运用，工艺质量有可追溯性; •真空室的模块式设计。
精密光学溅射系统（KOSS）
各种光学膜：AR/UV/IR截止滤光片、AF、AR膜、硬质膜、增强反射膜、带通滤光片、RGB滤光器、HR膜等; 数码产品外壳装饰镀膜：如手机炫光、渐变色镀膜等。产品特点：配置不同的靶和电源及膜厚仪可镀多种膜系，对金属、氧化物、化合物及其他高熔点膜材皆可，并可在玻璃表面超硬镀膜。全自动装卸和镀膜工艺控制，减少人为的误操作，保证高端产品的高质量和一致性，大大提高生产效率和镀膜产品附加值，为用户创造最大价值。
