专题三：半导体量测技术
专题四：光学薄膜高精度制作技术
下午场会议出席嘉宾包括精密光学工程技术研究所创始人 王占山教授、天津津航技术物理研究所 季一勤研究员、成都技致光电科技有限公司，电子科技大学 李斌成教授以及布勒莱宝、Cutting Edge Coatings、博顿光电、原速科技等光学薄膜领域知名企业高层，探讨人工智能赋能光学薄膜技术研究、全国产大口径离子束设备在微纳光学中的应用、高功率激光薄膜吸收损耗测试技术及仪器分析等话题，促进光学薄膜高精度制作技术、真空镀膜设备等领域的协同创新。
蔡振荣 博士
香港应科院物联网感测与人工智能 首席总监
蔡博在开场致辞中指出，半导体制造工艺精密复杂，量检设备作为生产流程中的关键环节。今年 3 月，由深圳国资委投资的企业集中推出近 30 台生产检测设备，这一举措在国内半导体量检设备领域引发关注，有望推动产业生态圈加速变革。
陈坚
合肥知常光电科技有限公司 CTO
陈总在报告中提到检测侧重缺陷识别，量测侧重参数测量，均贯穿半导体制造全流程。光学方法占检测设备的 3/4，优势是精度高、速度快，适合规模化生产，但受光波衍射极限限制，分辨率在先进制程中面临挑战。其典型应用场景涵盖无图形晶圆（激光散射成像）、图形化晶圆（明 / 暗场成像）、掩模版（深紫外激光）、碳化硅（多技术结合）等检测，以及光刻机光学元件检测。
谭绪斌
武汉精测电子集团股份有限公司 资深产品经理
谭总在报告中介绍了 FOPLP 板级封测发展趋势，指出玻璃基板凭借制造成本低、产出率高等优势较有机、硅基材料更具综合竞争力。当前玻璃材料需适配工艺并向轻薄化发展，加工难点集中在通孔质量（如表面光滑度、真圆度）与金属填充（如饱满度、气密性）。同时介绍了精测公司针对裸玻璃表面缺陷、通孔 1D/2D/3D 量测（如厚度、Taper 角、孔径）及双面线路高分辨率检测等推出的量测方案，助力实现高良率、低成本封装。
张建锋
麦克奥迪实业集团有限公司 总监
张总在报告中介绍了麦克奥迪超景深显微镜实现从 2D 到 3D 检测突破，可多角度变焦，适用于新能源汽车电池毛刺检测等场景，还引入台式扫描电镜解决传统光学分辨率问题。其半导体检测产品涵盖光学检测、全自动光学检测、晶圆处理及测量系统，部分产品如 MPS 系列利用专利技术，技术领先。
杨伟
成都中科卓尔智能科技集团有限公司 董事长
杨总在报告中重点分享应力检测仪与缺陷检测仪的研发及应用。团队依托产学研合作，联合国内供应链打通超精密抛光、缺陷检测、镀膜等核心工艺。报告中指出表面缺陷检测是良率提升的难点，14 纳米节点进口设备成本超亿元，团队正研发多模式缺陷检测样机，以提升检出率并降低对进口依赖，未来将通过技术融合与产业链协作推进国产化进程。
向猜
广东慧普光学科技有限公司 销售总监
向总在报告中介绍到慧普光学鸿鹄系统通过五大观察方式（明场/暗场/简易偏光/DIC /光致发光）和模块化组合，满足半导体多场景检测需求，暗场成像在部分缺陷检测中优于明场。公司自研对焦系统集成算法至激光传感器芯片，并开发高精度物镜切换器，提升检测效率与稳定性。
蒋金波
香港应用科技研究院有限公司 副总监
蒋博在报告中主要探讨了两个方面，首先是中段半导体检测，后摩尔时代先进封装成为趋势，需检测晶圆锡球、硅通孔（TSV）及重布线层缺陷，3D 封装检测融合 2D/3D 技术，白光干涉仪、条纹结构光投影、镭射三角法、光谱共聚焦等技术各有优劣，其中光谱共聚焦在速度与精度间平衡较好，可实现亚微米级测量，适用于晶圆特征、玻璃基板缺陷检测。
王占山
精密光学工程技术研究所 创始人
王老师在开场致辞中提到：“光学行业作为当下经济形势变化依旧发展的比较好的部分。光学薄膜应该是这个行业当中的基石，最起码它是一个非常基础的部分。这些基础的部分性能提升和发展，一定会推动我们国家相应产业的发展，也会给我们国家带来产业更好的发展。”
王占山
精密光学工程技术研究所 创始人
报告围绕 “人工智能赋能的光学薄膜精确制备技术” 展开，指出高性能光学薄膜是现代光学系统的基石，但其复杂结构的精确设计与制备面临高精度、高效率需求。传统流程包括优化、制备、检测反演等环节，而人工智能通过生成式网络、强化学习及数据驱动方法，可优化薄膜设计算法（如 FresneIDeep、GPT 方法），捕捉光谱与结构的映射关系。
Dr. Kunz Alexander
布勒莱宝光学阿尔策瑙有限公司 全球精密光学销售经理
报告围绕薄膜涂层技术助力深紫外技术的发展展开探讨，Dr. Kunz Alexander表示：“如今，工业和研究机构对紫外光学膜层的要求越来越高。深紫外（DUV）技术作为整个工业领域的推动者，广泛服务于半导体和光学计量行业，能够制造更小、更密集的结构。DUV技术将芯片制造的极限和研究的可能性推进到了193nm波长。”
易洪波
博顿光电科技有限公司 副总经理
报告围绕全国产大口径离子束设备在微纳光学中的应用，提到当前博顿光电在全国产大口径离子束设备于微纳光学领域取得突破。等离子让气体产生离化、再加上电场或磁场作用形成离子束，可用于镀膜、刻蚀及表面处理等。公司通过核心技术升级，开发全新高性能离子源及部件，集成 IAD 沉积、离子束溅射等设备，为增减材、高能注入应用场景。
沈璐博士
深圳市原速科技有限公司 高级研发工程师
沈博士在报告中提到：基于化学吸附与表面自限性，通过控制反应周期精准调控纳米级膜层厚度、成分等。对比传统镀膜技术，原子层沉积(ALD)技术在台阶覆盖率、均匀性、厚度控制（纳米级）等方面优势显著。在光学领域，ALD可通过镀膜改变光学特性，应用于超黑膜、装饰膜、超透镜、器件封装等场景，覆盖手机、车载、AR/VR 等产品。
Nick Erhart
Process Development Engineer, Cutting Edge Coatings GmbH
报告围绕量子纳米复合材料在先进多层膜设计制造与特性展开。Nick在大会上提到，通过H-materials 测试，在量子纳米层（QNL）堆栈中，TiO₂、Nb₂O₅和 ZrO₂可与 SiO₂结合；其可调光学特性体现在折射率和带隙取决于阱和势垒的大小；QNL 超材料功能可实现先进的多层涂层；波长控制方面，吸收边移位打开了新的设计范围；智能涂层工艺采用新型离子束溅射技术并结合时间/光学控制；此外，该技术还具备快速制造优势，具有运动部件少、涂布周期短的特点。
季一勤
天津津航技术物理研究所 研究员
报告主要介绍了硫系玻璃减反射膜目前的主要进展和问题。季老师在报告中指出：“硫系玻璃由于自身的优势，取得了广泛的应用。但加工成光学元件后，其可靠性和稳定性需要继续优化和改进。未来希望材料厂家、光学设计、光学加工、镀膜和测试分析等业内学者共同努力，将这系列问题的彻底解决。”
李斌成
电子科技大学 教授，成都技致光电科技有限公司
报告围绕激光量热及光热吸收测量原理和技术考虑、激光量热与光热吸收测量技术对比、光热吸收测试仪器的使用技巧、激光量热吸收测试仪器的研发四个方面展开。
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